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等離子體工藝腔室的多場耦合仿真

活動信息

  • 開始時間：2022-09-21 18:00:00
  • 活動地點：騰訊會議656 783 344
  • 主講人：張鈺如

活動簡介

在半導體芯片制備工藝中，涉及1000多道工序，其中約三分之一要用到含有等離子體的工藝腔室。數值仿真，具有效率高、成本低等優點，常被用于等離子體工藝腔室的研究中。本次講座簡要介紹了在等離子體工藝腔室仿真過程中，常用的模型。

主講人介紹

張鈺如，中共黨員，教授，博士生導師，大連理工大學星海骨干，中國博士后基金特別資助獲得者。2013年12月，分別獲得大連理工大學及比利時安特衛普大學授予的理學雙博士學位。2009年起，主要采用自主開發的流體模型、流體/蒙卡混合模型、流體/鞘層混合模型、整體/鞘層混合模型，及COMSOL軟件，系統研究容性耦合等離子體放電特性、感性耦合等離子體放電特性、等離子體鞘層特性、電磁效應、等離子體催化中的微放電等，在Applied Catalysis B, Plasma Sources Sci. Technol.及J. Phys. D: Appl. Phys.等國際核心期刊上發表論文50余篇。參與開發并集成出國內首款具有自主知識產權的等離子體源多場耦合仿真平臺MAPS，可以實現對多種等離子體源放電過程的模擬，并獲得多項發明專利及軟件著作權。